光刻机别名掩模对准曝光机、曝光系统软件、光刻系统等,是生产芯片的核心装备。它采用类似照片冲洗的专业技术,把掩膜版里的细致图型根据光线的曝光印刷到硅片上。光刻机的类型可以分为:触碰曝光、贴近式曝光、投影式曝光。
光刻机的工作原理是通过一系列的灯源动能、样子控制方法,将光线散射过画有线图的掩膜,经目镜赔偿各种各样电子光学偏差,将线图成正比例变小后映射到硅片上。然后用化学法显影,获得印在硅片里的电路原理图。一般的光刻技术需要经历硅片表面清理烘干处理、涂底、旋涂光刻技术、软烘、指向曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工艺。光刻机的生产与维护必须相对高度的光学和电子制造基本,因而,世上只有极少数生产厂家把握。